① SEM和EPMA實驗可以直接得到哪些信息
SEM是
掃描電子顯微鏡
，主要用於電子顯微成像，接配電子顯微分析附件，可做相應的特徵分析，
最常用的是聚焦
電子束
和樣品相互作用區發射出的元素特徵
X-射線
，可用EDS或者WDS進行探測分析，獲得微區（作用區）元素成分信息，而EDS或者WDS這類電子顯微分析附件卻來源於EPMA。
SEM就是一個電子顯微分析平台，分析附件可根據用戶需要來選配，有需要這個的，有需要那個的，因此
掃描電鏡
結構種類具有多樣性，從tiny、small、little
style，to
middle、large、huge
style.
就EDS或WDS分析技術來講，在SEM上使用，基本上使用無
標樣
分析，獲得很粗糙的
半定量
結果。
而EPMA在SEM商品化10年前，就已經開始實用了，其主要目的，就是要精確獲得微米尺度晶粒或顆粒的成分信息.
主要分析手段是WDS，一般配置4個WDS，基於此，EPMA結構比較單一，各品牌型號結構差距不大。EMPA追求電子顯微分析結果精準，因此
電子光學
設計不追求高分辨，電子顯微分析對匯聚束的要求相匹配即可。
早期EPMA成像手段主要採用同軸
光學顯微鏡
，然後移動樣品台或移動匯聚電子束，找到感興趣區，當前依然保留同軸光鏡，用來校準WD。EMPA對電子光學系統工作條件的穩定性要求超過SEM很多很多，控制系統增加了一些
負反饋
機制，確保分析條件和標樣分析保持很小的誤差。