氣相沉積表面強化研究方法

❶ 什麼是化學氣相沉積法它對對原料，產物和反應類型的要求有哪些

化學氣相沉積法有哪些反應類型，該法對反應體系有什麼要
化學氣相沉積法是指兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內,然後他們相互之間發生化學反應,形成一種新的材料,沉積到晶片表面上.淀積氮化硅膜(si3n4)就是一個很好的例子,它是由硅烷和氮反應形成的.

❷ 請問CVD（化學氣相沉積）的原理及應用

其含義是氣相中化學反應的固體產物沉積到表面。CVD裝置由下列部件組成；反應物供應系統，氣相反應器，氣流傳送系統。反應物多為金屬氯化物，先被加熱到一定溫度，達到足夠高的蒸汽壓，用載氣（一般為Ar或H2）送入反應器。如果某種金屬不能形成高壓氯化物蒸汽，就代之以有機金屬化合物。在反應器內，被塗材料或用金屬絲懸掛，或放在平面上，或沉沒在粉末的流化床中，或本身就是流化床中的顆粒。化學反應器中發生，產物就會沉積到被塗物表面，廢氣（多為HCl或HF）被導向鹼性吸收或冷阱。
沉積反應可認為還原反應、熱解反應和取代反應幾類。CVD反應可分為冷壁反應與熱壁反應。在熱壁反應中，化學反應的發生與被塗物同處一室。被塗物表面和反應室的內壁都塗上一層薄膜。在熱壁反應器中只加熱被塗物，反應物另行導入。

❸ CVD（化學氣相沉積）的原理及應用是什麼

其含義c是氣3相中3化1學反5應的固體產物沉積到表面。CVD裝置由下k列部件組成；反7應物供應系統，氣3相反7應器，氣4流傳送系統。反6應物多為0金屬氯化8物，先被加熱到一g定溫度，達到足夠高的蒸汽壓，用載氣5（一s般為6Ar或H3）送入v反4應器。如果某種金屬不a能形成高壓氯化4物蒸汽，就代之d以8有機金屬化2合物。在反2應器內4，被塗材料或用金屬絲懸掛，或放在平面上y，或沉沒在粉末8的流化0床中7，或本身就是流化5床中4的顆粒。化3學反3應器中7發生，產物就會沉積到被塗物表面，廢氣1（多為2HCl或HF）被導向鹼性吸收或冷阱。
沉積反3應可認4為5還原反2應、熱解反7應和取代反0應幾a類。CVD反3應可分6為5冷壁反7應與l熱壁反0應。在熱壁反1應中7，化1學反4應的發生與t被塗物同處一h室。被塗物表面和反3應室的內1壁都塗上b一z層薄膜。在熱壁反8應器中1隻加熱被塗物，反3應物另行導入q。
2011-10-28
11:18:35

❹ 金屬表面加硬的方法有哪些

根據金屬的不同，方法也不同，如下：

一、陽極氧化
主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性。

工藝流程:

單色、漸變色：

拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘乾

雙色：

①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽極氧化1→陽極氧化2 →封孔→烘乾

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘乾

技術特點:

1、提升強度

2、實現除白色外任何顏色

3、實現無鎳封孔，滿足歐、美等國家對無鎳的要求

技術難點及改善關鍵點：

陽極氧化的良率水平關繫到最終產品的成本，提升氧化良率的重點在於適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度，這需要結構件廠商在生產過程中不斷探索，尋求突破。

產品推薦：

E+G弧形手柄，採用陽極氧化材質，環保、耐用。

二、電泳
用於不銹鋼、鋁合金等，可使產品呈現各種顏色，並保持金屬光澤，同時增強表面性能，具有較好的防腐性能。

工藝流程：

前處理→電泳→烘乾

優點：

1、顏色豐富；

2、無金屬質感，可配合噴砂、拋光、拉絲等；

3、液體環境中加工，可實現復雜結構的表面處理；

4、工藝成熟、可量產。

缺點：

掩蓋缺陷能力一般，壓鑄件做電泳對前處理要求較高。

三、微弧氧化
在電解質溶液中（一般是弱鹼性溶液）施加高電壓生成陶瓷化表面膜層的過程，該過程是物理放電與電化學氧化協同作用的結果。

工藝流程：

前處理→ 熱水洗→ MAO → 烘乾

優點：

1、陶瓷質感，外觀暗啞，沒有高光產品，手感細膩，防指紋；

2、基材廣泛：Al, Ti, Zn, Zr, Mg, Nb, 及其 合金等；

3、前處理簡單，產品耐腐蝕性、耐候性極佳，散熱性能佳。

缺點：

目前顏色受限制，只有黑色、灰色等較成熟，鮮艷顏色目前難以實現；成本主要受高耗電影響，是表面處理中成本最高的其中之一。

四、PVD真空鍍
全稱物理氣相沉積，是一種工業製造上的工藝，是主要利用物理過程來沉積薄膜的技術。

工藝流程:

PVD前清洗→進爐抽真空→洗靶及離子清洗→鍍膜→鍍膜結束，冷卻出爐→後處理（拋光、AFP）

技術特點:

PVD（Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積) 可以在金屬表面鍍覆高硬鍍、高耐磨性的金屬陶瓷裝飾鍍層

五、電鍍
是利用電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止腐蝕，提高耐磨性、導電性、反光性及增進美觀等作用的一種技術。

工藝流程：

前處理→無氰鹼銅→無氰白銅錫→鍍鉻

優點：

1、鍍層光澤度高，高品質金屬外觀；

2、基材為SUS、Al、Zn、Mg等；成本相對PVD低。

缺點：

環境保護較差，環境污染風險較大。

六、粉末噴塗
是用噴粉設備（靜電噴塑機）把粉末塗料噴塗到工件的表面，在靜電作用下，粉末會均勻的吸附於工件表面，形成粉狀的塗層；粉狀塗層經過高溫烘烤流平固化，變成效果各異（粉末塗料的不同種類效果）的最終塗層。

工藝流程：

上件→靜電除塵→噴塗→低溫流平→烘烤

優點：

1、顏色豐富，高光、啞光可選；

2、成本較低，適用於建築傢具產品和散熱片的外殼等；

3、利用率高，100%利用，環保；

4、遮蔽缺陷能力強；5、可仿製木紋效果。

缺點：

目前用於電子產品比較少。

❺ 請問CVD（化學氣相沉積）的原理及應用

化學氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。化學氣相淀積法已經廣泛用於提純物質、研製新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。
原理
化學氣相沉積技術是應用氣態物質在固體上闡述化學反應並產生固態沉積物的一種工藝，它大致包含三步：
（1）形成揮發性物質 ；
（2）把上述物質轉移至沉積區域 ；
（3）在固體上產生化學反應並產生固態物質 。
最基本的化學氣相沉積反應包括熱分解反應、化學合成反應以及化學傳輸反應等集中。 [1]

特點
1）在中溫或高溫下，通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上。
2）可以在常壓或者真空條件下(負壓「進行沉積、通常真空沉積膜層質量較好）。
3）採用等離子和激光輔助技術可以顯著地促進化學反應，使沉積可在較低的溫度下進行。
4）塗層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
5）可以控制塗層的密度和塗層純度。
6）繞鍍件好。可在復雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合塗覆各種復雜形狀的工件。由於它的繞鍍性能好，所以可塗覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。
7）沉積層通常具有柱狀晶體結構，不耐彎曲，但可通過各種技術對化學反應進行氣相擾動，以改善其結構。
8）可以通過各種反應形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物塗層。

❻ 物理氣相沉積法制膜包括哪些基本過程

:(1)沉積原子在表面活性劑原子層上快速擴散;...首先提供一化學氣相沉積系統,其包括管狀爐管、連接至...化學汽相淀積法制膜技術及制膜設備話135制備網狀...如買賣方在交易過程中產生糾紛,溝通無果並發起維權...積法制膜設計資料沉積陽極膜沉積膜光纖...具體包括電沉積前驅液的制備、襯底清洗處理以及薄膜生長三大步,最後薄膜生長採用電...超薄自支撐聚醯亞胺濾光薄膜的物理氣相...本發明公開了一種脈沖電沉積制備均勻...在惰性或還原性保護氣體中進行沉積,...噴塗沉積大面積均勻透明導電薄膜裝置085...等離子輔助反應熱化學氣相沉積法制備晶...對物理氣相沉積(PVD)方法制備的CrMo合金膜和TiAlN陶瓷膜的結合強度、韌性、內聚...溶膠-凝膠法制備高折射GPTMS/TiO_2-ZrO_2材料[J];電子與封裝;2011年08期2...物理氣相沉積技術是一種對材料表面進行改性處理的高新...應用對象不斷擴展美國BalzersToolCoating公司1994年評估了用PVD法製取的薄膜在2000...真空鍍鋁膜生長過程的分形幾討論了等離子體引入化學氣相沉積過程中所帶來的一些變化,給出了現階段PCVD成膜...以往用於表面強化的氣相沉積技術主要有化學氣相沉積(...PCVD法制備硅系納米復合薄膜材物理氣相沉積技術的應用對象不斷擴展,...Coating公司1994年評估了用PVD法製取的薄膜在2000年前的市場發展前景〔1〕,認為,...Ti和Al的加工模具上的CrN沉積法〔3〕...[技術摘要]提供在抽真空或開始濺射時及在濺射過程中...本發明也包括物理氣相沉積靶,它基本上由鋁並且和小於...436-BG19304射頻磁控濺射法制備ZnO∶Zr透明導電薄膜...【等離子體增強化學氣相沉積法制圖優化TiO2薄膜及其光學性能研究】查看全文文章...4矩量法及其與物理光學混合演算法的研...5幾種離子/分子光學感測的設計...

❼ CVD化學氣相沉積法反應步驟可區分為哪五個步驟

化學氣相法又稱化學氣相沉積法，其反應步驟為：
1、用流化床進行連續處理。所以流化床－CVD 法可以生產多種碳納米管。碳納米管不僅可以生長在微米級的聚團狀多孔催化劑顆粒上，也可生長在毫米級的陶瓷球的表面上，還可以生長在層狀無機氧化物的層間，以大量得到聚團狀的碳納米管或毫米級長度的碳納米管陣列。
2、在不同級上的催化劑採用不同溫度操作，從而可以調變催化劑的高溫活性以便提高碳納米管的收率。
3、下行床與湍動床耦合的反應器技術可以調變催化劑還原與碳沉積的平衡，還能充分利用催化劑的活性，從而大批量制備高質量的單雙壁碳納米管。
CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術最初是作為塗層的手段而開發的，但目前，不只應用於耐熱物質的塗層，而且應用於高純度金屬的精製、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特徵的技術領域。 其技術特徵在於：（1）高熔點物質能夠在低溫下合成；（2）析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種；（3）不僅可以在基片上進行塗層，而且可以在粉體表面塗層，等。特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 例如，在1000℃左右可以合成a-Al2O3、SiC，而且正向更低溫度發展。 CVD工藝大體分為二種：一種是使金屬鹵化物與含碳、氮、硼等的化合物進行氣相反應；另一種是使加熱基體表面的原料氣體發生熱分解。 CVD的裝置由氣化部分、載氣精練部分、反應部分和排除氣體處理部分所構成。目前，正在開發批量生產的新裝置。

❽ 表面處理強化技術：軸承鋼表面強化方法有哪些

軸承零件工作表面和心部在狀態、結構和性能要求方面是有較大的差別的,而整體熱處理往往使二著不能兼顧,材料的潛力也得不到充分發揮。應用材料表面強化技術不僅可以較好地解決表面和心部在結構和要求方面的差異,而且還可以進一步使表面獲得某些特殊的工作性能,以滿足在特定條件下工作的軸承對工作表面性能的要求。這在現代化科學技術發展中是非常有意義的。
傳統的表面強化方法，工藝上屬於熱處理的范疇。而近代發展起來的激光、電子束、離子束等表面強化方法，不僅將一些高新技術應用於材料的表面強化，而且在工藝上已經超出了傳統的熱處理范疇，形成了新的技術領域。因此現在的表面強化技術可以從不同的角度形成多種分類方法，按表層強化技術的物理化學過程進行分類，大致可分為五大類：表面變形強化、表面熱處理強化、化學熱處理強化、表面冶金強化、表面薄膜強化。

1.表面變形強化
通過機械的方法使金屬表面層發生塑性變形，從而形成高硬度和高強度的硬化層，這種表面強化方法稱為表面變形強化，也稱為加工硬化。包括噴丸、噴砂、冷擠壓、滾壓、冷碾和沖擊、爆炸沖擊強化等。這些方法的特點是：強化層位錯密度增高，亞晶結構細化，從而使其硬度和強度提高，表面粗糙度值減小，能顯著提高零件的表面疲勞強度和降低疲勞缺口的敏感性。這種強化方法工藝簡單、效果顯著，硬化層和基體之間不存在明顯的界限，結構連貫，不易在使用中脫落。其多數方法已在軸承工業中得到應用：滾動體的表面撞擊強化就是這類方法的應用，精密碾壓已成為新的套圈加工和強化方法。

2.表面熱處理強化
利用固態相變，通過快速加熱的方法對零件的表面層進行淬火處理稱為表面熱處理，俗稱表面淬火。包括火焰加熱淬火、高(中)頻感應加熱淬火、激光加熱或電子束加熱淬火等。這些方法的特點是：表面局部加熱淬火，工件變形小；加熱速度快，生產效率高；加熱時間短，表面氧化脫碳很輕微。該方法特別是對提高承受一定沖擊載荷的大型和特大型軸承零件的耐磨性和疲勞強度效果顯著。

3.化學熱處理強化
利用某種元素的固態擴散滲入，來改變金屬表面層的化學成分，以實現表面強化的方法稱為化學熱處理強化，也稱之為擴散熱處理。包括滲硼、滲金屬、滲碳及碳氮共滲、滲氮及氮碳共滲、滲硫及硫氮碳共滲、滲鉻、滲鋁及鉻鋁硅共滲、石墨化滲層等等，種類繁多、特點各異。滲入元素或溶入基體金屬形成固溶體，或與其他金屬元素結合形成化合物。總之滲入元素即能改變表面層的化學成分，又可以得到不同的相結構。滲碳軸承鋼零件的處理工藝和滾針軸承套的表面滲氮強化處理均屬這一類強化方法。

4.表面冶金強化
利用工件表面層金屬的重新融化和凝固，以得到預期的成分或組織的表面強化處理技術稱為表面冶金強化。包括表面自溶性合金或復合粉末塗層、表面融化結晶或非晶態處理、表面合金化等方法。特點是採用高能量密度的快速加熱，將金屬表面層或塗覆於金屬表面的合金化材料熔化，隨後靠自己冷卻進行凝固以得到特殊結構或特定性能的強化層。這種特殊的結構或許是細化的晶體組織，也或許是過飽和相、亞穩相、甚至是非晶體組織，這取決於表面冶金的工藝參數和方法。
滾動軸承行業在微型軸承工作表面做過激光加熱強化研究，效果良好。

5.表面薄膜強化
應用物理的或化學的方法，在金屬表面塗覆於基體材料性能不同的強化膜層，稱為表面薄膜強化。它包括電鍍、化學鍍(鍍鉻、鍍鎳、鍍銅、鍍銀等)以及復合鍍、刷鍍或轉化處理等，也包括近年來發展較快的高新技術：如CVD、PVD、P-CVD等氣相沉積薄膜強化方法和離子注入表面強化技術(也稱原子冶金技術)等等。它們共同的特點是均能在工作表面形成特定性能的薄膜，以強化表面的耐磨性、耐疲勞、耐腐蝕和自潤滑等性能。例如離子注入技術強化軸承工作表面，能使軸承工作表面的耐磨性、耐蝕性、和抗接觸疲勞性能都得到顯著提高，從而使軸承的使用壽命得到成倍的增長。

❾ 物理氣相沉積法與化學氣相沉積法有何區別

物理氣相沉積法與化學氣相沉積法有3點不同，相關介紹具體如下：

一、兩者的特點不同：

1、物理氣相沉積法的特點：物理氣相沉積法的沉積粒子能量可調節，反應活性高。通過等離子體或離子束介人，可以獲得所需的沉積粒子能量進行鍍膜，提高膜層質量。通過等離子體的非平衡過程提高反應活性。

2、化學氣相沉積法的特點：能得到純度高、緻密性好、殘余應力小、結晶良好的薄膜鍍層。由於反應氣體、反應產物和基體的相互擴散，可以得到附著力好的膜層，這對表面鈍化、抗蝕及耐磨等表面增強膜是很重要的。

二、兩者的實質不同：

1、物理氣相沉積法的實質：用物理的方法（如蒸發、濺射等）使鍍膜材料汽化，在基體表面沉積成膜的方法。

2、化學氣相沉積法的實質：利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生反應生成固態沉積物的過程。

三、兩者的應用不同：

1、物理氣相沉積法的應用：物理氣相沉積技術已廣泛用於各行各業，許多技術已實現工業化生產。

2、化學氣相沉積法的應用：化學氣相沉積法的鍍膜產品涉及到許多實用領域。

❿ 氣相沉積分為那幾類方法CVD法包括那幾個過程PVD法有哪些方法,它們各自的原理是咋樣的

這個問題越來越難了，哈哈，還是 我回答，不知道你到底要做什麼產品，問看真有回答你的，你這樣問，說了這個行業廣，沒有辦法回答，手打沒有辦法，可以復制點給你。CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相沉積)，指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在超大規模集成電路中很多薄膜都是採用CVD方法制備。經過CVD處理後，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產生的刮痕。
CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術最初是作為塗層的手段而開發的，但目前，不只應用於耐熱物質的塗層，而且應用於高純度金屬的精製、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特徵的技術領域。 其技術特徵在於：（1）高熔點物質能夠在低溫下合成；（2）析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種；（3）不僅可以在基片上進行塗層，而且可以在粉體表面塗層，等。特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 例如，在1000℃左右可以合成a-Al2O3、SiC，而且正向更低溫度發展。 CVD工藝大體分為二種：一種是使金屬鹵化物與含碳、氮、硼等的化合物進行氣相反應；另一種是使加熱基體表面的原料氣體發生熱分解。 CVD的裝置由氣化部分、載氣精練部分、反應部分和排除氣體處理部分所構成。目前，正在開發批量生產的新裝置。 CVD是在含有原料氣體、通過反應產生的副生氣體、載氣等多成分系氣相中進行的，因而，當被覆塗層時，在加熱基體與流體的邊界上形成擴散層，該層的存在，對於塗層的緻密度有很大影響。圖2所示是這種擴散層的示意圖。這樣，由許多化學分子形成的擴散層雖然存在，但其析出過程是復雜的。粉體合成時，核的生成與成長的控制是工藝的重點。 作為新的CVD技術，有以下幾種： （1）採用流動層的CVD； （2）流體床； （3）熱解射流； （4）等離子體CVD； （5）真空CVD，等。 應用流動層的CVD如圖3所示，可以形成被覆粒子（例如，在UO2表面被覆SiC、C），應用等離子體的CVD同樣也有可能在低溫下析出，而且這種可能性正在進一步擴大