平行平晶使用方法

A. 平行平晶的簡介

平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用於測量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗量塊測量面的平面度誤差。平行平晶的兩個光學測量平面是相互平行的，用於測量兩高光潔表面的平行度誤差，例如千分尺兩測量面的平行度誤差.平晶用光學玻璃或石英玻璃製造。圓柱形平面平晶的直徑通常為 45～150毫米。其光學測量平面的平面度誤差為:1級精度的為0.03～0.05微米；2級精度的為0.1微米。常見的長方形平面平晶的有效長度一般為200毫米。

B. 平行平晶 測量千分尺平行度

使用平晶檢定時，依次將4塊厚度差為1/4螺距的平晶放入兩測量面間，使兩測量面與平晶接觸，轉動棘輪機構，並輕輕轉動平晶，使兩測量面出現的干涉環或干涉帶數目減至最少。分別讀取兩測量面上的干涉條紋數，取兩測量面上的干涉條紋數之和，代入公式n/2.λ,結果即為兩測量面的平行度。利用平晶組中每一塊平行平晶按上述程序分別進行檢定，取其中最大值作為受檢千分尺的兩測量面平行度測量結果。
但一般檢定中很少有人用平晶法進行檢定，一般都是用量塊來檢平行度。方法是用量塊的同一個面來在測量面的上下左右四個位置上分別讀數，並求出差值，其中最大值即為被檢千分尺的測量面平行度。

C. 平行平晶使用法

在平晶和待檢測物體之間用以簿片墊起，利用兩物體之間的空氣層對光線的反射後產生的干涉圖像進行檢測待測物體表面的光滑程度。

D. 用平行平晶檢定千分尺測量面的平行度使用平行平晶,為什麼要用尺寸以次間隔為(0.12

檢定千分尺的平行度是要選定兩測量面徑向的四個相對位置來確定其平行性；
如四個位置平行度均合格，則千分尺兩測量面在任何位置上都是平行的。
這四個位置是活動側桿測量面和固定測蛅測量面間隔90°的四個位置，即活動側桿轉動四分之一時相對測蛅的位置；
由於千分尺微分絲桿螺距為0.5mm故四塊平行平晶的尺寸差為0.5*1/4=0.125mm左右。

E. 為什麼用平行平晶測光線平行度是干涉條紋越少越好

1. 根據等厚干涉干涉原理，平行光進入晶體內。
2. 如果晶體是平行的話，（假設晶體是平行的話，光是正入射於晶體表面，晶體前後表面反射光是沿原光路返回，在晶體表面的干涉情形就完全相同，所以要麼看到亮或暗）。
3. 同理，如果晶體不平行，那麼晶體表面的干涉就與晶體的厚度有關系，那麼看到了干涉條紋。當然沒有條紋更好，有條紋說明平行度不好。
所以用平行平晶測光線平行度是干涉條紋越少越好。

F. 怎樣用光學平晶測量平面度

光學平晶看平面度，主要看空氣干涉條紋（光圈）。

G. 平晶的測量方法是什麼

平晶測量方法：
平晶是利用光波干涉現象測量平面度誤差的，故其測量方法稱為平晶干涉法,也稱技術光波干涉法。測量時，把平晶放在被測表面上，且與被測表面形成一個很小的楔角θ，以單色光源照射時會產生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關。如入射光線垂直於被測表面，且平晶與被測表面間的間隙很小，則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面P發生干涉而出現明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f=(v/ω)×(λ/2)
λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。
平面平晶是用於以干涉法測量塊規，以及檢驗塊規、量規、零件密封面、測量儀器及測量工具量面的研合性和平面度的常用工具。適用於光學加工廠、廠礦企業計量室、精密加工車間、閥門密封面現場檢測使用，也適用於高等院校、科學研究等單位做平面度等檢測。

H. 平行平晶的用途

平行平晶是用於以干涉法測量塊規，以及檢驗塊規、量規、零件密封面、測量儀器及測 平晶
量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。
適用於光學加工廠、廠礦企業計量室、精密加工車間、閥門密封面現場檢測使用，也適用於高等院校、科學研究等單位做平面度等檢測。